Производитель Россия — Установка плазмохимического травления и осаждения

Просмотров: 9 327

Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П

Назначение


    Плазмохимическое осаждение из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4, и др.);


    Удаление фоторезиста в кислородной плазме;


    Плазмохимическое травление широкого спектра материалов, очистка и модифицирование поверхности подложек и структур;


    Атомно-слоевое осаждение тонких конформных слоев.

ЭТНА-П Установка имеет компактные размеры и выполнена в виде моноблока. Реактор выполнен из нержавеющей стали с постоянным верхнем фланцем, несущем на себе функции нагрева и удержания образцов. На нижнем фланце располагается узел генерации индуктивно-связанной плазмы. Загрузка образцов — фронтальная через порт быстрого доступа. Баллоны с газами располагаются в дополнительном шкафу (поставляются отдельно). Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.

Разработка и производство Россия, ООО «СИТЭК» — в России лучше и многообразнее.







Источник: Sdelanounas.ru
Другие новости:




Цитата

Счастье для Русского человека – это ощущать себя частью великого Единения и соучаствовать в деле создания справедливого мироустройства на Земле.

В несправедливом строе, когда меньшинство паразитирует на большинстве, у Русского человека нет мотивации к труду. Русский человек добросовестно и безвозмездно трудится, если в обществе есть нравственная идея, праведная цель

Владимир Цветков